産業用途
半導体・電子製造
プロセスガス、DI水、選定されたプロセス液向けの焼結金属フィルターです。材質と構造は、化学組成、清浄度目標、粒子限度、圧力、温度、洗浄条件に基づいて確認します。
産業用途
半導体・電子製造
プロセスガスろ過
プロセスガス、DI水、選定されたプロセス液向けの焼結金属フィルターです。材質と構造は、化学組成、清浄度目標、粒子限度、圧力、温度、洗浄条件に基づいて確認します。
DI水・CMPスラリー
プロセスガス、DI水、選定されたプロセス液向けの焼結金属フィルターです。材質と構造は、化学組成、清浄度目標、粒子限度、圧力、温度、洗浄条件に基づいて確認します。
クリーンルーム前処理
プロセスガス、DI水、選定されたプロセス液向けの焼結金属フィルターです。材質と構造は、化学組成、清浄度目標、粒子限度、圧力、温度、洗浄条件に基づいて確認します。
半導体プロセス用フィルターの選定
HFまたはフッ化物を含む流体には、文書化された材料適合性確認なしで指定しないでください。
粒子限度、クリーン包装、試験方法を事前に定めてください。
重要用途ではロット単位の文書を合意してください。
半導体プロセス用フィルターの選定
流体、清浄度目標、流量、圧力、温度、必要書類をお知らせください。