BRANCHENANWENDUNG

Halbleiter und Elektronik

Sintermetallfilter für Prozessgas, DI-Wasser und ausgewählte Prozessmedien. Werkstoff und Filteraufbau werden nach Chemie, Reinheitsziel, Partikellimit, Druck, Temperatur und Reinigungsverfahren geprüft.

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Halbleiter und Elektronik

Prozessgasfiltration

Sintermetallfilter für Prozessgas, DI-Wasser und ausgewählte Prozessmedien. Werkstoff und Filteraufbau werden nach Chemie, Reinheitsziel, Partikellimit, Druck, Temperatur und Reinigungsverfahren geprüft.

DI-Wasser und CMP-Suspension

Sintermetallfilter für Prozessgas, DI-Wasser und ausgewählte Prozessmedien. Werkstoff und Filteraufbau werden nach Chemie, Reinheitsziel, Partikellimit, Druck, Temperatur und Reinigungsverfahren geprüft.

Reinraum-Vorfiltration

Sintermetallfilter für Prozessgas, DI-Wasser und ausgewählte Prozessmedien. Werkstoff und Filteraufbau werden nach Chemie, Reinheitsziel, Partikellimit, Druck, Temperatur und Reinigungsverfahren geprüft.

Filter für Halbleiterprozesse spezifizieren

HF- oder fluoridhaltige Medien nicht ohne dokumentierte Werkstoffprüfung spezifizieren.

Partikelgrenze, Reinraumverpackung und Prüfmethode vorab festlegen.

Für kritische Anwendungen chargenbezogene Dokumentation vereinbaren.

Filter für Halbleiterprozesse spezifizieren

Senden Sie Medium, Reinheitsziel, Durchfluss, Druck, Temperatur und gewünschte Dokumentation.

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