Ultrareine gesinterte Metallelemente für die Prozessgaslieferung, chemisch-mechanische Polierschlämme und die Kontrolle von Reinraumumgebungen – wo ein einzelnes Metallpartikel über der kritischen Abmessung ein Chip-Ertragsziel zunichtemacht.
Da die Halbleiter-Strukturgrößen schrumpfen, verringert sich auch die Toleranz gegenüber partikulärer Kontamination. Bei Prozessgas- und DI-Wasser-Anwendungen werden Filterelemente aufgrund ihrer stabilen Porenstruktur, sauberen Oberflächen und des geringen Risikos der Medienmigration während des Betriebs ausgewählt.
Gesinterte Edelstahlfilterelemente erfüllen die Anforderungen an die Partikelreinheit. Die gesinterte Metallmatrix ist mechanisch stabil – keine Fasern, keine Bindemittel, kein Migrationsrisiko. Die feste gesinterte Struktur minimiert die Oberfläche für Partikelanhaftung im Vergleich zu gewebten oder faserigen Medien.
FILTURE liefert Sinterfilterelemente aus SS 316L für Gasversorgung in Halbleiterprozessen, Chemikalienverteilung und CMP-Slurry-Filtration. Für DI-Wasser-Polishing-Schleifen und Gasdiffusionsanwendungen, unsere gesinterte poröse Scheiben und Rohre kontrollierte Abgabe. Auf Wunsch sind für kritische Anwendungen eine saubere Verpackung und die Prüfung der Partikelanzahl erhältlich.
Gehäuseabmessungen werden durch enge Toleranzen eingehalten Nachbearbeitung nach dem Sintern, und jede Charge kann versendet werden mit Teilchenzahl- und Materialprüfberichte für Qualifizierungsunterlagen der Fabrik.
Gesinterte Edelstahl-Inlinefilter an N₂-, Ar-, H₂- und Spezialgasleitungen – eine eng kontrollierte Porenöffnungsbarriere, die Partikel begrenzt, die Prozesskammern, Abscheideanlagen und Ätzsysteme erreichen.
0,5–5 µm · Geringes MigrationsrisikoPoint-of-Use-Filtration bei der Verteilung von chemisch-mechanischen Polierschlämmen – Entfernung übergroßer Partikel, bevor sie das Polierpad erreichen und Mikrokratzer auf der Waferoberfläche verursachen.
0,5–2 µm · Abriebfest SSGesinterte Edelstahlfilter auf H₂O₂-, HF- und anderen Nassprozess-Chemieliefersystemen – Feinpartikelentfernung vor Nassreinigungswerkzeugen und Ätzbädern für Wafer.
1–5 µm · Chemikalienbeständiger Edelstahl oder TitanMetallische Vorfilter für Reinraum-HLK- und Zuluftsysteme – Schutz von HEPA- und ULPA-Filterbänken vor Grobstaub, Verlängerung der Standzeiten der Endfilter.
5–50 µm · Edelstahl · Lange LebensdauerSintered Edelstahlelemente als Point-of-Use-Filter in deionisierten Wasserverteilschleifen – Entfernung von Partikeln und Bio-Load vor dem Kontakt des Wassers mit Waferoberflächen bei Reinigungs- und Spülvorgängen.
0,22–1 µm · DI-kompatibelGas Einlass gesinterte Filter an Diffusions- und Oxidationsöfen – Aufrechterhaltung einer ultrareinen N₂- und O₂-Atmosphäre in Röhrenöfen, wo jede metallische Verunreinigung zu Geräteleckagen führt.
0,5–2 µm · Hohe Reinheit · Keine AusgasungKontrollierte Verpackungsoptionen und Partikelzählberichte sind auf Anfrage für kritische Halbleiteranwendungen verfügbar.
Flachgesinterte Platten für Gasdiffusion und -verteilungseinrichtungen, Elektrodensubstrate und Filtermedienrohlinge – zugeschnitten auf die Abmessungen Ihres Prozesswerkzeugs oder Ihrer Kammerbefestigung.
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Hochporöses gesintertes Titanfaser-Filzvlies für spezielle Gasdiffusions- und Filtrationsmedien in Reingasleitungen, mit geringem Druckabfall bei hohen Durchflussraten.
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Gesinterte poröse Scheiben für Gas Einblasen und gleichmäßige Gasverteilung in Halbleiterprozessanlagen – für blasenfreien, laminaren Gasfluss über die aktive Prozessfläche.
Details anzeigenGesinterter Edelstahl ist eine solide, starre Struktur ohne lose Faserschichten oder Bindemittelharz im Filterkörper. Im Vergleich zu gewebten oder polymerbasierten Medien wird die gesinterte Matrix oft dort eingesetzt, wo ein geringes Risiko der Partikelabgabe wichtig ist.
Sintered SS ist eine mechanisch gebundene feste Matrix – keine losen Fasern, kein Bindemittelharz und keine Polymersicht im Filterkörper. Die Metallmatrix gibt unter normalen Betriebsbedingungen, Druckschwankungen oder thermischen Belastungen keine Partikel in den Filtratstrom ab.
Die Blasendichtheitsanalyse ist auf Anfrage verfügbar und dokumentiert die Porengrößenverteilung auf der Filteroberfläche. Maßzeichnungen und Materialzertifikate werden bereitgestellt – Prozessingenieure in der Halbleiterindustrie, die eine individuelle Rückverfolgbarkeit benötigen, können das vollständige Dokumentationspaket anfordern.
"Nach der Installation von porenhaltigen FILTURE Ti-Scheiben in unserem DI-Wasser-Polierkreislauf wurde die Sauberkeit nachgeschaltet stabiler und innerhalb der ersten Betriebsstunden leichter zu handhaben.
Fab-Prozessingenieur Halbleiterhersteller · Taiwan
"Wir benötigten eine kontaminationsfreie Filtration für einen Lithografieprozess. Die Ti-Elementoberfläche wurde mittels RFA überprüft – keine nachweisbare Eisenfreisetzung. Die Reinraum-konforme Verpackung vereinfachte die Eingangsprüfung.
Reinraum-Ingenieur Fab Equipment Company · Japan
Teilen Sie uns Ihren Gastyp, den Betriebsdruck, die gewünschte Porengröße und die Anforderungen an die Oberflächenreinheit mit. Wir werden die Materialgüte, Verpackungsoptionen und die Verfügbarkeit von Partikelzähltests bestätigen.
